井式真空爐（又名：坑式真空爐、立式真空爐）
適用工藝：
井式/立式雙工位真空爐真空爐主要用于半導體器件燒結，封焊，太陽能電池片烘干、焊接及金屬化管殼等氣密性封裝，玻璃容器的燒結及各種零件在氫氮保護下進行的工藝，也多用于機械密封的退火工藝。
特點：
采用水冷/氣冷方式進行加熱容器冷卻，降溫速度快；加熱容器小，升溫速度快。特別適用于小批量零部件快速加溫、冷卻后取出，因升溫速度快，無需預熱，設備不用即可關閉，節能省電。
井式真空爐主要技術參數
真空室工位數：1-3位
真空度：5x10-6Pa/4X10-2Pa
工作溫度：0-1320℃
充氣的最高壓強：0.5Mpa（可控）
不銹鋼內膽：Φ150-Φ350x1300(用戶自定)
儀表精度：±1℃/24h
控溫方式：觸摸屏自動控制/三點三段采用進口日本高可靠控溫器
控溫曲線：9段升降溫/999小時
工作方式：自動或手動自由轉換
正壓、負壓均采用數字顯示表/電阻式壓力傳感器
多工位交替/同時工作，加壓臺可以自動升降（選）
人機界面：觸摸屏/工控機
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