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氧化爐|擴散爐|合金爐
適用工藝：擴散、氧化、合金、退火等工藝。 |
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應用：應用于集成電路、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽能電池等領域，適用2~8英寸工藝尺寸
產品特點：
◆主機為水平一至三管爐系統構架，獨立完成不同的工藝或相同工藝
◆工業計算機控制系統，對爐溫、進退舟、氣體流量、閘門等動作進行自動控制
◆采用懸臂送片器：操作方便、無摩擦污染等
◆關鍵部件均采用進口，確保設備的高可靠性
◆工藝管路采用進口閥門管見組成-氣密性好、耐腐蝕、無污染（管路均采用EP級電拋光管
路），流量控制采用質量流量計（MFC）進口
◆控溫精度高，溫區控溫穩定性好
◆具有斷電報警、超溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能
◆高質量的加熱爐體，確保恒溫區的高穩定性及長壽命
氧化爐主要技術指標
1、工藝說明
1.1氧化：干氧工藝，濕氧工藝（去離子水、氫氧合成-內/外點火）
1.2擴散：硼擴、磷擴（液態源、固態源等）
1.3合金、退火等工藝
2、系統組成：主機（加熱體、石英/SiC管、功率組件等)、自動送片（懸臂-SiC）凈化工作臺、氣路氣源系統（氣源柜）、計算機控系統等組成
3、控制方式：手動送片/自動送片
4、氧化爐配置（可選）：
4.1儀表控制/計算機控制
4.2工藝管（水平結構）：1-3管
4.3工藝規格：2~6英寸晶圓或125mm×125mm、156mm×156mm太陽能電池片（工藝腔體為石英或碳化硅）
4.4恒溫區長度：800mm/600mm/450mm
4.5晶圓裝載：手動/懸臂式（剛玉/碳化硅桿，碳化硅槳）
4.6工作臺：有凈化/無凈化
4.7工藝氣路：對應的工藝氣路，氣路閥門組件采用國際優質品牌產品（如SWAGELOK、PARK、SANDVIK、CARDINAL等等），MFC國際優質（如MKS、UNIT、STEC等）或國產優質
5、主要技術參數：
5.1工作溫度：200～1300℃
5.2加熱體控制點：3點
5.3爐體恒溫區：450mm/600mm/800mm
5.4恒溫區精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
5.5單點溫度穩定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
5.6最大可控升溫速度：15℃/min
5.7最大降溫速度：5℃/min（900～1300℃）
5.8供電：三相四線，380VAC/50HZ
6、氧化爐結構尺寸：
6.1 結構：水平擴散爐
垂直擴散爐
6.2尺寸結構如圖（參考）
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